洁净室

洁净室提供用于设备或工艺的研究、开发和制造的有利环境，其中环境污染物（如灰尘、空气中的微生物、气溶胶颗粒和化学蒸汽）含量较低。

鉴于对质量检查和控制、对缺陷的零容忍以及严格的生产实践的要求逐步提升，对洁净室的需求也在成倍增长。洁净室通常被设计为专门的封闭区域，可对空气中的颗粒、温度、湿度、气压流动模式、空气运动、振动、噪音和可存活生物进行环境控制。

洁净室的主要应用于电子工业、制药、航空航天、汽车、信息技术等生产条件更为严苛的领域。洁净室的应用范围较广，从小微组件、电子设备和仪器的制造，到对药品、食品的无菌性和纯度保障以及医疗和生物应用中的无菌环境的打造，对其的需求日益攀升。

污染物的来源多样，包括空气（其清洁度根据洁净室的等级和灰尘的等级定义）、水、化学品、物理设备本身以及人员等。

湿度失控的影响

• 微生物滋生和腐蚀
• 工作表面结露，导致工期延误和产品质量下降
• 污染导致产品变质

湿度失控的原因

半导体和制药洁净室中的湿度较高等原因

半导体洁净室

微电路和微芯片制造需要吸湿性聚合物（即光阻）来掩蔽电路线路，以便进行蚀刻处理。此等材料具有吸湿性，易吸收湿气，会切断或桥接微电路线，导致电路故障。此外，在半导体制造过程中，当晶圆制造区的湿度发生波动时，可能会出现诸多问题。烘干时间会增加，整个过程更难控制。湿度水平超过 35% 的相对湿度时，元器件容易遭受腐蚀。当显影剂溶剂喷洒到晶片上时，溶剂会迅速蒸发，使晶片冷却到足以冷凝空气中的水分。这些多余的水分会改变显影剂的特性，同时吸附于半导体层，导致元期间内膨胀和产品质量问题，因此有必要进行额外的过程控制。

制药洁净室

在制药设施中，高湿度会导致细粉吸湿，堵塞压片机的粉末进料口。吸湿造成的粉末不匀会导致药片破碎和压片机堵塞。湿度变化增加床温调整和喷洒难度，从而导致热损伤和湿气入侵。此外，通风管道系统中的湿度亦为细菌菌落的滋生创造潮湿环境，导致工艺污染。

一般建议

洁净室内的相对湿度应在全年范围内控制在35%-40%之间（取决于工艺要求）。当温度低于20°C(70°F)时，相对湿度通常保持在±2 %的范围内。

百瑞空气解决方案

百瑞空气干燥剂转轮除湿机可将露点持续保持在很低的水平，如(-) 60°C，使空气湿度降低数倍，远超标准 HVAC 级制冷系统的水平。